Visokohitrostna dvoosna galvanska skenirajoča ogledala – lahka pravokotna zasnova z odbojnostjo >99,5 % za UV do IR laserje

Skenirno ogledalo je lahka pravokotna ogledala, ki se uporabljajo za visokohitrostne dvoosne laserske skenirne sisteme. Dimenzije vsakega ogledala se izračunajo glede na velikost laserskega žarka. Ogledalo je zasnovano z visoko odbojnostjo 99,5 % ali več. Skenirno ogledalo je običajno nameščeno na galvanometer za namene skeniranja. Pri dvoosnih skenirnih ogledalih je običajno ogledalo Y večje velikosti v primerjavi z zrcalom X. To je posledica dejstva, da se ogledalo X uporablja za skeniranje ogledala Y in ne neposredno predmeta.

Ključne specifikacije:

• Površinska slika: λ/2 pri 633 nm
• Praskanje/Kopanje: 40/20
• Možnosti substrata: silicij (Si), BK7, taljeni silicijev dioksid (FS)
• Na voljo so odsevni premazi:
  • Zlata prevleka za infrardeče laserje (10,6 μm – CO₂)
  • Dielektrična ali srebrna prevleka za Nd:YAG laserje (1064nm / 650nm)
  • Dielektrični premaz za zelene in vidne laserje (532 nm / 650 nm)
  • Dielektrični premaz za UV laserje (266 nm / 355 nm)